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理事单位
拓荆科技股份有限公司
上传时间:2023-02-14 点击量:474次

单位名称:拓荆科技股份有限公司

单位简介:拓荆科技股份有限公司成立于20104月,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,是我国高端半导体设备的领军企业。公司聚焦半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成晶圆制造三大核心设备,是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVDSACVD设备厂商,国内领先的ALD设备厂商,产品广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、先进封装等领域。

公司多次承担国家重大项目,突破了一系列集成电路领域“卡脖子”关键技术,三次获评“中国半导体设备五强企业”,先后获得“辽宁省科学技术进步一等奖”、“技术创新奖”、“中国半导体创新产品”、“国家知识产权示范企业”、“全国五一劳动奖状”等荣誉。20224月,在科创板挂牌上市。

产品简介:公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,拥有自主知识产权,主要技术指标达到国际同类产品先进水平。

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