拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，是我国高端半导体设备的领军企业。公司聚焦半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成晶圆制造三大核心设备，是目前国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，国内领先的ALD设备厂商，产品广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、先进封装等领域。

公司多次承担国家重大项目，突破了一系列集成电路领域“卡脖子”关键技术，三次获评“中国半导体设备五强企业”，先后获得“辽宁省科学技术进步一等奖”、“技术创新奖”、“中国半导体创新产品”、“国家知识产权示范企业”、“全国五一劳动奖状”等荣誉。2022年4月，在科创板挂牌上市。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，主要技术指标达到国际同类产品先进水平。

联系人：     胡娜

电话：13940050582

邮箱：na.hu@piotech.cn

网址：www.piotech.cn

地址：沈阳市浑南区水家900号